| Titre : | Preparation and Characterizations of F Doped NiS Thin Films by Deposition Spray Method |
| Auteurs : | Dalel ZOUAOUI, Auteur ; Said Benramache, Directeur de thèse |
| Type de document : | Mémoire magistere |
| Année de publication : | 2025 |
| Format : | 1 vol. (50 p.) |
| Langues: | Anglais |
| Mots-clés: | F ; NiS ; Thin films ; Doping Levels ; Spray pneumatic. |
| Résumé : | In this work, the F doped NiS thin films were successfully deposited on glass substrate by spray pneumatic method. F doped NiS solutions were prepared by dissolving (0.15 M) an amount of nickel nitrate hexahydrate (Ni(NO3)2.6H2O) and thiourea (CS(NH2)2) as a source of nickel Ni and sulfur S respectively, and ammonium fluoride (NHF4) with the ratio of F/S = 0.01 to 0.05. The effect of F doping on structural, optical, morphologically and electrical properties were investigated. The prepared F doped NiS thin films have a polycrystalline nature with a hexagonal structure, the (012) diffraction peak is the preferred orientation. The FTIR analysis showed the characteristic vibration bands of NiS. The AFM analysis revealed that nanometer sized spherical grains cover the entire surface of the films prepared. The minimum sheet resistance was found for the thin film prepared with 1 at% F |
| Sommaire : |
Dedecation Acknowledgement Table of Contents Abstract الملخص Liste of Tables Liste of figures General Introduction Chapter one: Thin Films and their applications I.1. Introduction 5 I.2. Thin films 5 I.3. Semiconductor Materials 6 I. 4. Presentation of Nickel sulfide I. 4. 1. Structural Properties I. 4 .2. Optical Properties I. 4. 3. Electrical properties I. 5. Nickel sulfide applications 12 I. 5. 1. Electrodes of LIBs and Supercapacitors (SCs) 12 I. 5. 2. Oxygen Reduction Reaction (ORR) 13 I. 6. Semiconductors Doping I. 7. Thin Film Deposition Methods I. 7.1. Pulsed Laser Deposition (PLD) 15 I. 7.2. Sputtering 15 I. 7.3. Thermal Evaporation 16 I. 7.4. Chemical VaporDeposition (CVD ) 16 I. 7.5. Spin Coating 16 I. 7.6. Spray deposition method I. 8.Fluoride I. 8. 1. Definition I. 8. 2. The physical properties of fluoride I. 9. Conclusions Chapter two: Experimental parts II.1. Introduction II.2. Generalities on spray pyrolysis technique (SPT) II.2.1 Advantages of spray pyrolysis Techniqu II.2.3 Classification & equipment of Spray Pyrolysis Technique II.3. Principle of deposition processes in spray pyrolysis II.3.1. Atomization of the precursor solution II.3.2. Aerosol transport of the droplet II.3.3. Decomposition of the precursor to initiate film growth II.4. Protocol methodology II.4.1 Preparation of spray solution II.4.2 Preparation of the Films II. 5. Charactirization techniques II. 5. 1. X-Ray diffraction technique (XRD) II. 5. 1. 1.The Lattice parameters II. 5. 1. 2.The Crystallites size (D) II. 5. 1. 3.The dislocations density II. 5.2. Spectroscopy UV-VISIBLE II. 5. 3. Four-probe method II.5.3. Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR) II. 7. Conclusion References Chapter there: Results and Discussions III.1. Introduction III.2. Experimental procedure III.3. Structural properties III.5. AFM analysis III.5. Electrical properties III.7. Conclusions References General Conclusion |
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